光刻机
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不玩EUV了 佳能推出高性能KrF光刻机：套刻精度可达4nm
，EUV光刻机是7nm以下先进工艺生产的不可少的关键设备，全球只有ASML能量产，日本佳能公司另辟蹊径，推出了一款高性能KrF光刻机，套刻精度也达到了4nm。佳能公司宣布，将于2026年12月份上市面
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余承东曾称国产EUV可期！光刻机被抢疯了：ASML、佳能、尼康度在扩产
，一周前，全球光刻机龙头ASML在最新发布的第三季度财报中对外披露，客户针对2027年、2028年的设备预订单需求，已经超过了公司当下的现有扩产计划，不少提前锁定产能的核心客户，甚至已经开始咨询202
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3nm麒麟要惊艳全球！华为：绕开光刻机，韬定律让中国芯逆袭
7月25日消息，近日，华为技术有限公司山东副总经理、产业发展与生态部部长赵颖恪对外公开介绍了华为全新提出的韬定律，这套全新的产业发展思路，为当下中国芯片产业突破制程限制、走出独立发展路径，提出了完全不同于过往海外技术路线的全新解法。
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High-NA EUV光刻机价值3.8亿美元，ASML已收到10至20台订单
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机。新设备的体积非常巨大，需要使用13个集装箱和250个板条箱来进行运输，将从荷兰的费尔德霍芬运送到美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地，另外还需要250名工程师并花费6个月完成安装。
