EUV
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不玩EUV了 佳能推出高性能KrF光刻机：套刻精度可达4nm
，EUV光刻机是7nm以下先进工艺生产的不可少的关键设备，全球只有ASML能量产，日本佳能公司另辟蹊径，推出了一款高性能KrF光刻机，套刻精度也达到了4nm。佳能公司宣布，将于2026年12月份上市面
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余承东曾称国产EUV可期！光刻机被抢疯了：ASML、佳能、尼康度在扩产
，一周前，全球光刻机龙头ASML在最新发布的第三季度财报中对外披露，客户针对2027年、2028年的设备预订单需求，已经超过了公司当下的现有扩产计划，不少提前锁定产能的核心客户，甚至已经开始咨询202
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德国的卡脖子技术：蔡司独揽EUV镜头研发、4万零部件重达12吨
，半导体工艺进入5nm节点之后，EUV光刻机基本上是没法绕过去的，目前全球只有荷兰ASML公司能够生产这种尖端装备，但它背后也离不开德国的核心技术——EUV镜头。不论是DUV还是EUV光刻，三大核心技
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High-NA EUV光刻机价值3.8亿美元，ASML已收到10至20台订单
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NA EUV光刻机。新设备的体积非常巨大，需要使用13个集装箱和250个板条箱来进行运输，将从荷兰的费尔德霍芬运送到美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔半导体技术研发基地，另外还需要250名工程师并花费6个月完成安装。
